本次探索之行最重要的環(huán)節(jié)，就是參觀索尼位于熊本的半導(dǎo)體工廠。今天我領(lǐng)略了號(hào)稱影像行業(yè)半壁江山的索尼熊本的半導(dǎo)體工廠，看到了他壯觀與雄偉的CMOS和A9取景器的制作流程，為我的日本之行增添了濃墨重彩的一筆。
因?yàn)楸Ｃ艿脑颍敬螀⒂^沒(méi)有拍攝照片的機(jī)會(huì)。不過(guò)好在索尼為我們提供了一套可以供媒體發(fā)表的CMOS生產(chǎn)制作流程圖片以及索尼電子取景器的制作流程圖，可以與大家分享。
生產(chǎn)一塊CMOS主要分為前工序與后工序。在前工序中，一塊大的圓柱形高純度單晶硅體，先被切割成直徑30cm的硅晶圓盤(pán)。之后進(jìn)入“洗凈工序”：用純凈水去除硅圓盤(pán)上的金屬、有機(jī)物等殘留物。隨后會(huì)進(jìn)行“電路印刷工序”。這時(shí)候在硅晶片上就會(huì)形成拜耳涂層以及電路圖案。前工序結(jié)束之后，會(huì)有機(jī)器人將25片為一組的硅晶片盤(pán)盒送至后工序車(chē)間，在這里對(duì)CMOS進(jìn)行測(cè)試，并切割成我們常見(jiàn)的一片片結(jié)構(gòu)。在“切割工序”完成后，會(huì)有機(jī)器人進(jìn)行“連接工序”，將IC芯片的電極和引線與硅片本體連接。到這里CMOS的制作工序就基本結(jié)束了，因?yàn)楸Ｃ艿脑虿荒芙榻B的太過(guò)詳細(xì)，而索尼所生產(chǎn)的不同種類的CMOS在制作過(guò)程中也有細(xì)節(jié)區(qū)別，在這里不一一說(shuō)明。
而除了CMOS的生產(chǎn)過(guò)程，索尼A9的EVF取景器也在這里生產(chǎn)，所以我再為大家簡(jiǎn)單介紹一下EVF取景器芯片的制作過(guò)程。
制作EVF芯片的前工序與制作CMOS的基本相同，主要區(qū)別在于后工序。在后工序中首先對(duì)芯片進(jìn)行堆棧前的清洗，之后會(huì)進(jìn)行涂膜工藝，和引線安裝工序，將LED芯片與導(dǎo)線連接。連接完成后的部件要進(jìn)行測(cè)試，即老化工序，連續(xù)使用實(shí)驗(yàn)。至此取景器LED屏幕的制作步驟就基本結(jié)束了。
短暫的參觀，大大的收獲。這次探索之旅對(duì)我來(lái)說(shuō)無(wú)疑是一次學(xué)習(xí)和成長(zhǎng)的機(jī)會(huì)。
