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國(guó)內(nèi)首款全自主計(jì)算光刻EDA軟件在光谷研發(fā)成功
2022-11-25 10:11:29   來(lái)源:湖北廣電融媒體

光谷企業(yè)近日成功研發(fā)出全國(guó)首款完全自主可控的OPC軟件。OPC軟件,即“光學(xué)鄰近校正軟件”,是芯片設(shè)計(jì)工具EDA的一種,沒有它,即使用了光刻機(jī),也造不出芯片。

記者尚大原:“所謂光刻,就是把這個(gè)黑色版圖上的電路圖形通過(guò)光學(xué)成像的方式呈現(xiàn)在這塊紅色的硅片上,就像是照相機(jī)照相片,但是隨著芯片關(guān)鍵尺寸從90nm到32nm不斷降低,相片上的圖形會(huì)不可避免地出現(xiàn)失真,而OPC軟件就是避免這種失真?!?/p>

在180納米以下芯片的光刻前,都必須采用OPC軟件進(jìn)行優(yōu)化。目前,這一軟件市場(chǎng)由三家美國(guó)公司壟斷。

華中科技大學(xué)教授、宇微光學(xué)軟件有限公司創(chuàng)始人劉世元:“可以這么講,沒有OPC的話,即使有最好的光刻機(jī)也發(fā)揮不了作用,我們自主可控,最核心的就是(掌握)物理算法?!?/p>

此次研發(fā)出OPC軟件的光谷企業(yè)宇微光學(xué),創(chuàng)始人劉世元來(lái)自華中科技大學(xué),師從楊叔子院士。專注集成電路計(jì)算光刻的基礎(chǔ)研究20余年。

華中科技大學(xué)教授、宇微光學(xué)軟件有限公司創(chuàng)始人劉世元:“20年前參加國(guó)家的重大專項(xiàng),100納米分辨率光刻機(jī)的研制,回到學(xué)校以后就一直在從事計(jì)算光刻這方面的研究工作,堅(jiān)持做基礎(chǔ)的研究,做關(guān)鍵技術(shù)的攻關(guān)?!?/p>

十多年來(lái),劉世元團(tuán)隊(duì)堅(jiān)持最底層的代碼一行行敲、最基礎(chǔ)的公式一個(gè)個(gè)算,終于打造出自主可控的OPC軟件算法。目前,企業(yè)正在做集成與測(cè)試,并到芯片生產(chǎn)廠商進(jìn)行驗(yàn)證,孵化企業(yè)的武漢光電工研院也將提供技術(shù)轉(zhuǎn)化服務(wù)。

武漢光電工業(yè)技術(shù)研究院有限公司總經(jīng)理韓道:“搭建一個(gè)產(chǎn)業(yè)生態(tài),讓我們更多解決了卡脖子的、擁有核心技術(shù)的工具,能夠被客戶所接受,并且穩(wěn)定地升級(jí),穩(wěn)定地使用?!?/p>


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